2 métodos para revestimento de germânio polido de dupla face

O germânio revestido polido de dupla face é comumente usado para janelas planas de germânio ou substratos em sistemas ópticos infravermelhos.

Para dupla face germânio revestido polido, a maioria das fábricas utiliza métodos de processamento de polimento superfície por superfície (polimento de um lado e depois do outro), incluindo polimento com cera e polimento com almofada sem cera.

1. Polimento com cera 

Fixe o lado principal do wafer no disco cerâmico com cera, então realize o polimento traseiro, após o polimento, aqueça o disco cerâmico para desmontar o wafer, encerando. Deve proteger a superfície de polimento, e então novamente na placa, a superfície de polimento para baixo na placa, jogue a superfície principal qualificada após descarregar a peça, cera, limpeza durante este processo.

Como há apenas uma fina camada de cera entre o wafer e o disco de cerâmica, e o wafer e o disco de cerâmica são fortemente adsorvidos, é muito fácil causar deslocamento entre o wafer e o disco de cerâmica ao descarregar o wafer, o que exige muito da técnica e proficiência do operador.

2. Método de polimento sem cera

O wafer no disco primeiro joga o lado de trás, o lado de trás do descarregamento qualificado, agitar para secar, no lado de trás polido do filme UV, o filme virado para baixo no disco, joga o lado principal do descarregamento qualificado, agitar para secar, descobrindo o filme, limpando.

Devido à necessidade de processamento de filme, usará o filme de lascamento de lâmina, de modo que ao lascar e descobrir o filme terá a possibilidade de lascar na borda ou na face do wafer, resultando em defeitos cp e s profundos, esses defeitos pertencem às forças externas causadas pela cicatriz geral são mais profundas, é difícil de reparar, afetando muito a taxa de qualificação do wafer, devido ao polimento do filme como uma camada protetora, o filme é uma goma, permanecerá na face do germânio revestido polido, as impurezas polidas, partículas de poluição grudadas e muito mais. Precisa limpar para remover, não é fácil de limpar.

A CNGE adota o método de revestimento de germânio polido de dupla face, devido à quantidade estável de gota, reação uniforme, pode soltar a quantidade e a qualidade da superfície de ambos, com polimento de dupla face com apenas um procedimento para poder concluir o polimento, para garantir que o ttv na faixa qualificada, a espessura do wafer seja uniforme, simplifique o método de etapas, reduza o consumo de materiais auxiliares, economize mão de obra, remova o polimento de impurezas desnecessárias geradas pela contaminação do adesivo, melhore a eficiência do polimento e a qualidade do polimento, para melhorar a estabilidade do polimento; o tempo de processamento é curto, boa qualidade, alta eficiência e consistência de processamento, pode ser produção em massa de produtos.

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