Hochreines Ge-Ziel 5 Eigenschaften und 4 Anwendungen

Inhaltsverzeichnis

Einführung

Hochreines Ge-Target zeichnet sich durch hohe Dichte, hohe Wärmeleitfähigkeit, hohen Schmelzpunkt, hohe elektrische Leitfähigkeit und hohe Stabilität aus.

Es handelt sich um ein Sputtertarget aus hochreinem Germaniummetall, das in einem speziellen Verfahren verarbeitet wird. Das Target hat ein grauweißes Aussehen und weist harte und spröde Eigenschaften auf. Seine hohe Reinheit stellt sicher, dass das Target während des Sputterprozesses eine stabile und reine Versorgung mit Germaniumatomen gewährleistet und so die Qualität und Leistung des Endprodukts sicherstellt.

Eigenschaften des Ge-Ziels

Hohe Dichte

Die Dichte von Germanium beträgt bis zu 5,35 g/cm³. Während des Dünnschichtabscheidungsprozesses wird die hohe Reinheit Ge-Ziel ist in der Lage, ausreichend Germaniumatome bereitzustellen, was zu einer deutlichen Verbesserung der Qualität und Leistung des Films führt.

Hervorragende Wärmeleitfähigkeit

Ein Ge-Target kann Wärme schnell und gleichmäßig übertragen, was nicht nur die Effizienz der Filmabscheidung verbessert, sondern auch die Gleichmäßigkeit und Stabilität des Films gewährleistet.

Ge-Ziel

Hoher Schmelzpunkt

Der Schmelzpunkt von Germanium liegt bei bis zu 937 °C, wodurch hochreine Germaniumtargets hohen Temperaturen standhalten und während der Dünnschichtabscheidung stabile physikalische und chemische Eigenschaften beibehalten können.

Hohe Leitfähigkeit

Als Halbleitermaterial weist ein hochreines Ge-Target eine gute elektrische Leitfähigkeit auf, wodurch der durch seine Abscheidung gebildete Germaniumfilm hervorragende elektrische Eigenschaften aufweist.

Hohe Stabilität

Ein hochreines Ge-Target verfügt außerdem über eine starke antioxidative Wirkung, behält seine Stabilität in einer Umgebung mit hohen Temperaturen und Sauerstoff und oxidiert nicht so leicht.

Anwendung von Ge Target

Optisches Feld

Wird häufig bei der Herstellung von Beschichtungen mit bestimmten optischen Eigenschaften verwendet, wie z. B. Antireflexbeschichtungen und Reflektorbeschichtungen.

Optisches Infrarotfeld

Wird häufig bei der Herstellung von Infrarotfenstern, -linsen und -spiegeln für die Infrarottechnologie verwendet.

Solarzellenfeld

Durch die Verwendung von Solarzellen aus hochreinen Ge-Targets kann die photoelektrische Umwandlungseffizienz effektiv verbessert werden. Dies senkt den Energieverbrauch und trägt zur Entwicklung erneuerbarer Energien bei.

Halbleiterbereich

Wird zur Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Dioden, Transistoren usw. verwendet.

Abschluss

In diesem Artikel werden fünf Eigenschaften und vier Anwendungen von Ge-Targets beschrieben, mit denen unser Unternehmen N-Typ 99,999%-Targets aus reinem Germanium mit Größen im Bereich von 50–2000 mm und Dicken von 1–20 mm für jeden Satz herstellen kann.

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