Cible Ge haute pureté 5 caractéristiques et 4 applications

Table des matières

Introduction

La cible Ge hautement pure se caractérise par une densité élevée, une conductivité thermique élevée, un point de fusion élevé, une conductivité électrique élevée et une stabilité élevée.

Il s'agit d'une cible de pulvérisation constituée de métal germanium de haute pureté traité par un procédé spécial. La cible a une apparence blanc grisâtre et présente des qualités dures et cassantes, dont la grande pureté garantit que la cible fournit un approvisionnement stable et pur en atomes de germanium pendant le processus de pulvérisation, garantissant ainsi la qualité et les performances du produit final.

Caractéristiques de la cible Ge

Haute densité

La densité du germanium est aussi élevée que 5,35 g/cc. Pendant le processus de dépôt de couche mince, la haute pureté Cible Ge est capable de fournir suffisamment d’atomes de germanium, ce qui entraîne une amélioration significative de la qualité et des performances du film.

Excellente conductivité thermique

La cible Ge est capable de transférer la chaleur rapidement et uniformément, ce qui améliore non seulement l'efficacité du dépôt de film, mais garantit également l'uniformité et la stabilité du film.

Cible Ge

Point de fusion élevé

Le point de fusion du germanium peut atteindre 937 °C, ce qui permet aux cibles de germanium de haute pureté de résister à des températures élevées et de maintenir des propriétés physiques et chimiques stables pendant le dépôt de couches minces.

Haute conductivité

En tant que matériau semi-conducteur, la cible Ge de haute pureté présente une bonne conductivité électrique, ce qui confère au film de germanium formé par son dépôt d'excellentes propriétés électriques.

Haute stabilité

La cible Ge hautement pure possède également une forte capacité antioxydante, peut être dans un environnement à haute température et à haute teneur en oxygène pour maintenir la stabilité, pas facile à oxyder.

Application de la cible Ge

Champ optique

Couramment utilisé dans la préparation de revêtements aux propriétés optiques spécifiques, tels que les revêtements antireflets et les revêtements réflecteurs.

Champ optique infrarouge

Largement utilisé dans la fabrication de fenêtres infrarouges, de lentilles et de miroirs pour la technologie infrarouge.

Champ de cellules solaires

En utilisant des cellules solaires préparées à partir de cibles Ge de haute pureté, l'efficacité de conversion photoélectrique peut être efficacement améliorée, réduisant ainsi la consommation d'énergie et contribuant au développement des énergies renouvelables.

Domaine des semi-conducteurs

Utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que des diodes, des transistors, etc.

Conclusion

Cet article décrit cinq caractéristiques et quatre applications de la cible Ge que notre société peut produire. Cible en germanium pur de type N 99,999% avec une taille comprise entre 50 mm et 2000 mm et une épaisseur de 1 à 20 mm pour chaque ensemble.

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